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- 微電子所在傳感器晶圓級鍵合封裝技術(shù)領(lǐng)域取得新進(jìn)展
- 來源:賽斯維傳感器網(wǎng) 發(fā)表于 2014/12/3
近日,中國科學(xué)院微電子研究所集成電路先導(dǎo)工藝研發(fā)中心在傳感器晶圓級鍵合封裝技術(shù)研發(fā)領(lǐng)域取得新進(jìn)展,其針對三軸加速度傳感器所開發(fā)的8英寸Al-Ge共晶圓片級封裝技術(shù)(WLP)以及配套的減薄和劃片技術(shù)已通過質(zhì)量體系考核,采用該系列技術(shù)的T4型三軸加速度產(chǎn)品已上市銷售。
MEMS器件與傳統(tǒng)IC器件相比,往往具有脆弱的可動結(jié)構(gòu),因此需要在MEMS器件劃片與測試前將其保護(hù)起來。WLP技術(shù)在大大降低器件尺寸與成本的同時,還可有效地提高器件生產(chǎn)良率與可靠性,因此針對MEMS器件的WLP技術(shù)已成為科技界與工業(yè)界的關(guān)注熱點。MEMS器件的WLP技術(shù)不僅需要提供必需的焊盤引出外,還要擔(dān)負(fù)起為器件可動結(jié)構(gòu)提供適當(dāng)?shù)臍饷芑蛘婵盏裙ぷ鳝h(huán)境的任務(wù),因此相對傳統(tǒng)IC,MEMS對WLP技術(shù)提出更高的技術(shù)挑戰(zhàn)。
集成電路先導(dǎo)工藝研發(fā)中心與國內(nèi)公司共同建立了微電子所晶圓鍵合聯(lián)合實驗室,致力于MEMS器件的晶圓級鍵合封裝技術(shù)的開發(fā)。該實驗室開發(fā)的第一套Al-Ge晶圓鍵合封裝技術(shù)的鍵合環(huán)寬度僅有70um,其鍵合強(qiáng)度已超過70MPa、漏率小于5.0x10-3Pa·cm3/s(圖1和圖2分別為劃片前的晶圓照片和切割后的產(chǎn)品照片),該產(chǎn)品FT成品率(如圖3所示)優(yōu)于97%,與國際知名半導(dǎo)體代工廠所生產(chǎn)的同類產(chǎn)品指標(biāo)相當(dāng),達(dá)到國際一流水平。
完成代工后產(chǎn)出晶圓照片
最終切割后產(chǎn)品照片以及紅外、X-SEM
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